上海微電子（SMEE) 做為國內(nèi)擁有最先進(jìn)的光刻機(jī)設(shè)計(jì)制造技術(shù)廠商，目前能達(dá)到的最高工藝節(jié)點(diǎn)（tech node) 是90nm。90nm是什么概念呢？大致相當(dāng)于2004年2月年英特爾的奔騰4，當(dāng)時最強(qiáng)的Prescott架構(gòu)3.8Ghz就是用的90nm光刻，也是那個時代晶圓廠最好的工藝代表。另外同期同制程節(jié)點(diǎn)的還有索尼Playstation2的處理器、IBM PowerPC G5、英偉達(dá)的GeForce8800 GTS等。當(dāng)然實(shí)際光刻能力，涉及到晶圓廠的制造能力，最終會有不同。雖然光刻工藝只是芯片制造的上千道工藝中的一部分，但確實(shí)最關(guān)鍵的，光刻精度不夠，后面任何步驟設(shè)計(jì)都會產(chǎn)生大量的偏移和失效。這在國際上，算是第四名，因?yàn)闆]有第五第六名。

光刻基本原理圖解：光刻膠會根據(jù)光罩所繪制的圖形被UV射線照射下留下對應(yīng)的圖形形狀

晶圓片放大后可以看到一個一個的die排列，die內(nèi)部是層層疊疊的電路，這些電路就先由光刻開始來制造

而這臺SSX600系列的90nm光刻機(jī)，大約是在2007年研發(fā)成功，真正上市時間未知。時至今日，上海微電子的主流產(chǎn)品還停留在前道90nm以及后端光刻系列。后端光刻主要用于先進(jìn)封裝形式，也就是晶圓級封裝（WLP）及Bumping為主，對光刻精細(xì)度要求沒有可比性，拜托有的人就不要把封測那邊甚至是MEMS、液晶面板光刻的市場份額拿出來說了，完全兩個世界。前道光刻才是真正的地獄難度。

所謂IC前道光刻機(jī)90nm系列

那90nm的光刻機(jī)在2021年的今天，還能做什么？我們可以看看下面這個圖：，55-90nm僅剩9%的產(chǎn)能，邏輯芯片（比如CIS，驅(qū)動芯片、控制芯片等）、e-Flash和DAO(電源類分立器件芯片，結(jié)構(gòu)最為簡單）為主。也就是說基本上不會是西方卡脖子的類別，器件設(shè)計(jì)上構(gòu)造簡單的芯片。

全球晶圓制造產(chǎn)能vs.技術(shù)節(jié)點(diǎn)占比

導(dǎo)致國產(chǎn)光刻機(jī)一直沒用進(jìn)步的原因有很多。實(shí)際上國家進(jìn)行相關(guān)立項(xiàng)是非常早的，也不僅僅是一家公司一個研究機(jī)構(gòu)進(jìn)入項(xiàng)目。可無奈高端光刻機(jī)的大部分核心零部件，我們沒有能力設(shè)計(jì)制造，導(dǎo)致一進(jìn)口就被禁運(yùn)。當(dāng)然，我們的設(shè)備廠商、半導(dǎo)體材料研究機(jī)構(gòu)、晶圓廠，都在積極尋求和國外機(jī)構(gòu)、企業(yè)的合作，以達(dá)到研發(fā)和其他資源上的共贏，并規(guī)避一部分境外的技術(shù)、材料、部件的限制。只是離高端制程節(jié)點(diǎn)越近，這樣的限制就卡得越緊。（大家可以查一下IMEC這個比利時的研究機(jī)構(gòu)，他們在上海也有分店。）

我們可以先看看一臺光刻機(jī)的主要組成部分有哪些：

• 光學(xué)成像系統(tǒng)（制造更短的波長滿足瑞利準(zhǔn)則CD = k1?? λ / NA）

• 光路與激光系統(tǒng) （決定不同的光源和發(fā)射方式）

我國大部分商用級的激光研發(fā)都在光電，精度級別也有差異

• 鏡頭與對焦系統(tǒng) （復(fù)雜的納米級光學(xué)成像系統(tǒng)）

EUV光刻機(jī)內(nèi)部大概是這樣的

• 機(jī)械、自動化部分 （所謂超精密型自動化系統(tǒng)，感應(yīng)精度要達(dá)到每秒兩萬次位置檢測，每次位移小于一個硅原子的尺寸——60皮米。什么概念？你要開著高達(dá)在一根頭發(fā)上刻自己名字）

感應(yīng)器要檢測圖中黑色晶圓片上每一個die內(nèi)部的電路之間光刻的完成情況，而且是每秒幾萬次

光學(xué)檢測機(jī)臺

e-Beam有專門的系統(tǒng)來負(fù)責(zé)

ASML最新型EUV極紫外光刻系統(tǒng)TWINSCAN NXE:3400C

稍微查一下材料，就可以看到國內(nèi)到底哪些廠商有能力供應(yīng)65nm以下光刻系統(tǒng)核心部件，是否已經(jīng)擁有商業(yè)級別自主設(shè)計(jì)和制造能力。對，你猜得沒錯，幾乎都沒有——實(shí)驗(yàn)室里面有、研發(fā)基地里面有，但那不等于可以進(jìn)行到商用級別，還只能停留在實(shí)驗(yàn)室里面做論證和分析。 而且加上瓦森納協(xié)議《關(guān)于常規(guī)武器和兩用物品及技術(shù)出口控制的瓦森納安排》等西方世界針對社會主義國家的禁運(yùn)玩法存在，就連跨國合作都被限定在非常清晰的框架內(nèi)。現(xiàn)實(shí)就是如此殘酷！

藍(lán)色為瓦森納協(xié)定國

一下子要跳到28nm，甚至14nm，不是上海微電子做不出來，而是這事情不能靠上海微電子一家去做。這是一個需要整合社會資源、進(jìn)行多層次多路徑全賽道起跑的一整套工業(yè)技術(shù)開發(fā)項(xiàng)目集合。那一條賽道慢一點(diǎn)，我們的下一個世代光刻機(jī)就要等等。資金，我們有的；人才，我們也有的；參照物也有的；政策也有明確的導(dǎo)向；輿論也給足了勁。剩下的就是給他們時間和空間，因?yàn)楦鲗ｍ?xiàng)有對應(yīng)的企業(yè)和機(jī)構(gòu)在攻堅(jiān)了。小道消息，28浸沒式DUV有在研發(fā)（對就是你們知道的02項(xiàng)），但還是需要些時間才知道是否能用到晶圓廠里。如果有吹14nm出來的，到今天為止可以直接當(dāng)做某種對上海微電子乃至整個國產(chǎn)光刻機(jī)行業(yè)的捧殺。

少一點(diǎn)毒奶，多一點(diǎn)務(wù)實(shí)。把他們吹上天，未必是好事。把他們貶得一文不值、冷嘲熱諷，也不過是遞刀子讓境外滲透勢力攻擊我們的科研體制。讓社會大眾了解清楚現(xiàn)狀，我們自己的輿論也責(zé)無旁貸。

上海微電子，前路漫漫，卻依然是國產(chǎn)高端光刻機(jī)的希望。

這個問題非常好，提到光刻機(jī)，不能不說這是國人心中一個深深的痛。

中芯國際（SMIC）為了發(fā)展最先進(jìn)的7納米芯片制造工藝，在2018年初，以1億多美元向荷蘭ASML訂購了一臺EUV紫外線光刻機(jī)。然而，近兩年過去了，ASML受到美國的各種施壓，遲遲不向中芯國際交付這一臺高端光刻機(jī)。而我們沒有絲毫辦法，這不能不說是店大欺客，欺人太甚。

上海微電子（SMEE）作為國產(chǎn)光刻機(jī)唯一的提供商，在目前本土高科技發(fā)展，尤其是芯片被美國窮盡手段阻斷的情況下，它的存在無疑成為國內(nèi)芯片制造的唯一希望。

那么上海微電子在光刻機(jī)領(lǐng)域的實(shí)力究竟如何呢？

其實(shí)這里要先說明一下光刻機(jī)的分類，從用途上區(qū)分，其主要有四大類：制造芯片的前道光刻機(jī)，封裝芯片的后道光刻機(jī)，制造LED/MEMS/功率器件的光刻機(jī)，以及制造TFT液晶屏的光刻機(jī)。

而上海微電子對這四種光刻機(jī)都有涉足，尤其是封裝芯片的后道光刻機(jī)，其在國內(nèi)具有80%的市場占有率，在國際上也有近40%的占有率，每年都有近60臺的出貨量。

其客戶都是世界前十大封測工廠，比如國內(nèi)的長電科技JCET，通富微TF，以及臺灣的日月光半導(dǎo)體，這是非常了不起的成就。

上海微電子的研發(fā)實(shí)力也不容小覷，在光刻機(jī)領(lǐng)域的專利申請量有近3000項(xiàng)。在國內(nèi)半導(dǎo)體設(shè)備廠商的綜合排名中，位居前五名。

但是在半導(dǎo)體制造中，最核心的其實(shí)屬于前道光刻機(jī)，其在半導(dǎo)體制造成本里占30%之多，中芯國際向ASML購買的EUV極紫外線光刻機(jī)就屬于前道光刻機(jī)，可用于生產(chǎn)7納米工藝的芯片。

而上海微電子目前可以提供的最先進(jìn)前道光刻機(jī)，只能用于生產(chǎn)280納米，110納米和90納米工藝的芯片。從這方面講，上海微電子與世界前三大光刻機(jī)生產(chǎn)商ASML，佳能Cannon和尼康Nikon的差距，是非常巨大的。

除了上海微電子之外，中科院和華中科技大學(xué)都有對光刻機(jī)的研發(fā)，但這都停留在實(shí)驗(yàn)室的階段，很難進(jìn)入商用。

比如中科院號稱開發(fā)出的“22納米光刻機(jī)”，采用表面等離子技術(shù)，不同于EUV極紫外光技術(shù)，具有很大的缺陷，無法生產(chǎn)CPU和顯卡GPU等電路非常復(fù)雜的芯片，這決定了，其無法進(jìn)入商用領(lǐng)域。

華中科技大學(xué)國家光電中心甘棕松團(tuán)隊(duì)，利用雙光束超衍射的技術(shù)，開發(fā)出的光刻機(jī)，目前僅能用于微納器件的三維制造，距離進(jìn)行集成電路芯片制造，還有很多技術(shù)需要攻克，更別提進(jìn)行成熟的商用芯片制造。

由此我們可以看出，媒體上很多宣稱打破國際封鎖，開發(fā)出的幾納米光刻機(jī)，基本上距離商用都很遙遠(yuǎn)，有的甚至基于不同目的還偷換概念。

這從另一個側(cè)面說明，上海微電子在國內(nèi)光刻機(jī)領(lǐng)域，是唯一有希望進(jìn)行更高端光刻機(jī)研發(fā)的企業(yè)，因此它的地位是無法替代的。

值得一提的是，從相關(guān)渠道了解到，上海微電子正在02專項(xiàng)的支持下，進(jìn)行28納米前道光刻機(jī)的研發(fā)，已經(jīng)取得了很大的進(jìn)展。從90納米跨越到28納米，如果能實(shí)現(xiàn)，也是一個了不起的進(jìn)步，期待上海微電子的28納米光刻機(jī)！

#原創(chuàng)#

水平不高

但不空白

堅(jiān)持研發(fā)

踏實(shí)前進(jìn)

一步一步

后來居上

故，最終趕超一流

＃上海常青教育凌遠(yuǎn)長著＃

上海微電子光刻機(jī)在全球?qū)儆谑裁此剑可虾Ｎ㈦娮庸饪虣C(jī)在國內(nèi)是最先進(jìn)的光刻機(jī)研發(fā)制造企業(yè)，其前道光刻機(jī)能夠?qū)崿F(xiàn)90nm制程，在國內(nèi)市場份額超過80%，并且也銷往國外。但與國際先機(jī)光刻機(jī)相比，上海微電子光刻機(jī)卻處于低端光刻機(jī)序列。

目前光刻機(jī)市場幾乎被荷蘭ASML、日本尼康和佳能、中國上海微電子設(shè)備集團(tuán)四家所壟斷。而在這里面，又分為三個檔次，荷蘭ASML壟斷了高端光刻機(jī)市場份額，日本尼康和佳能處于中端但同時競爭中低端市場，而上海微電子只有低端光刻機(jī)市場。其中ASML采用13.5nm的光源，可以實(shí)現(xiàn)7nm的制程，未來還將會實(shí)現(xiàn)更小nm的工藝。而上海微電子目前只能實(shí)現(xiàn)90nm工藝制程，差距不小。

上海微電子集團(tuán)成立與2002年，成立之初當(dāng)時國外公司曾經(jīng)嘲諷：“即使把圖紙和元器件全部給你們，你們也裝配不出來。”。然而上海微電子經(jīng)過自力更生艱苦奮斗，硬是打臉了國外公司的臉，在2007年研制出了我國首臺90nm制程的高端投影光刻機(jī)。

不過由于樣機(jī)一出來因?yàn)椴捎昧藝庖M(jìn)的高精度元器件，這時西方國家丑惡的嘴臉暴露了出來，擺出了《瓦森納協(xié)議》共同對我國實(shí)現(xiàn)高精度元器件禁運(yùn)。以至于到目前即使研究出更好的光刻機(jī)，要大量生產(chǎn)也受到了國內(nèi)產(chǎn)業(yè)鏈的限制。但上海微電子硬是憑借一口氣，還是又研制出了另外的光刻機(jī)出來，并逐漸在國內(nèi)贏得了市場。

現(xiàn)在國內(nèi)已經(jīng)意識到光刻機(jī)相當(dāng)重要的作用，中芯國際已經(jīng)花了將近1.5億美元引進(jìn)ASML高端光刻機(jī)，但過去了兩年還未能交貨，因?yàn)閲庥凶钄_要得到這臺高端光刻機(jī)會經(jīng)過不少波折，最后也不知道能不能成。國內(nèi)相關(guān)的機(jī)構(gòu)也在重點(diǎn)突破光刻機(jī)技術(shù)，比如中科院光電所已經(jīng)研究出光刻分辨力達(dá)22nm的技術(shù)，結(jié)合雙重曝光技術(shù)可以實(shí)現(xiàn)10nm芯片的制造。

不過光刻技術(shù)攻克后，要實(shí)現(xiàn)光刻機(jī)量產(chǎn)還有不少的時間。特別是需要幾萬個零部件要達(dá)到高精準(zhǔn)度的高端光刻機(jī)，其中的關(guān)鍵高精度零部件比如鏡頭、光源、軸承等，目前國內(nèi)產(chǎn)業(yè)鏈還達(dá)不到，也需要聯(lián)合攻關(guān)才能取得，這需要花費(fèi)不少的時間。就如中科院微電子所院士所說，在光刻機(jī)方面國內(nèi)與國外先進(jìn)相比相差15-20年的距離。即使是國內(nèi)最先進(jìn)的上海微電子，也還有相當(dāng)長的路要走。

更多分享，請關(guān)注《東風(fēng)高揚(yáng)》。

    如果說上海微電子的光刻機(jī)全球領(lǐng)先，大家都不會相信。荷蘭ASML最新的光刻機(jī)為7nm制程工藝，即將量產(chǎn)5nm，上海微電子最新的量產(chǎn)光刻機(jī)是90nm，正在研發(fā)65nm光刻機(jī)。也就是說，我國的光刻機(jī)與世界先進(jìn)水平還有很大的差距。

    真正的差距在哪里？

    上海微和荷蘭ASML光刻機(jī)的差距，客觀反映了我國和西方發(fā)達(dá)國家在精密制造領(lǐng)域的差距。一臺頂級光刻機(jī)的零部件，來自于西方不同的發(fā)達(dá)國家，美國的光柵和計(jì)量設(shè)備、德國的光學(xué)設(shè)備和超精密機(jī)械、瑞典的軸承、法國的閥件等等，最要命的是，這些頂級零件對我國是禁運(yùn)的。

    荷蘭ASML的光刻機(jī)，90%的關(guān)鍵設(shè)備來自于不同的發(fā)達(dá)國家，自己并不生產(chǎn)關(guān)鍵零部件，而是做好精準(zhǔn)控制和集成，將13個系統(tǒng)的3萬多個分件做好精準(zhǔn)控制，誤差分散到這13個系統(tǒng)中。上海微電子同樣是一家系統(tǒng)集成商，自己并不生產(chǎn)關(guān)鍵零部件，所以在沒有頂級零部件、沒有突破關(guān)鍵技術(shù)的情況下，做不出7nm光刻機(jī)光刻機(jī)不是它的責(zé)任。

    有錢買不到？

    還有一個關(guān)鍵的問題，荷蘭ASML的7nm EUV光刻機(jī)，處于壟斷地位，全球只有ASML能夠生產(chǎn)，而且產(chǎn)量有限，即便有錢也很難買到，原因有兩點(diǎn)。

    原因一：ASML的合作模式

    ASML有一個獨(dú)特的合作模式，只有投資了ASML，才能獲得優(yōu)先供貨權(quán)，也就是說ASML要求客戶先要投資它自己才行，通過這種合作模式，ASML從來不用擔(dān)心錢的問題，包括英特爾、三星、臺積電、海力士等都是ASML的股東，可以說大半個半導(dǎo)體行業(yè)都是ASML的合作伙伴。

    ASML的高端光刻機(jī)產(chǎn)量本來就不高，早早就被英特爾、臺積電等這些公司預(yù)定了。

    原因二：技術(shù)封鎖

    我國進(jìn)口高技術(shù)設(shè)備時，無法繞開的一部法令是《瓦森納協(xié)定》，美國和歐盟等國家都是其成員國，這是一部全球性的法令，我國就在被禁名單之內(nèi)。這個協(xié)定也不是完全禁售，而是禁售最新幾代的設(shè)備，比如2010年90nm以下的光刻機(jī)對我國禁售，2015年改成65nm。

    我國的晶圓廠中芯國際，早在2018年就從ASML成功預(yù)訂了一臺7nm EUV光刻機(jī)，先是因?yàn)锳SML的合作伙伴失火，導(dǎo)致訂單延期，無法交貨，后是因?yàn)槭艿矫绹臓恐疲商m不予簽發(fā)許可證，所以，中芯國際至今仍然沒有收到，其中的原因大家可以想一想。

    總之，在光刻機(jī)領(lǐng)域，我國與世界先進(jìn)水平還有巨大的差距，而且光刻機(jī)的研發(fā)不能實(shí)現(xiàn)跳躍，沒有突破65nm之前，是無法研發(fā)24nm的。同時，ASML向我國晶圓廠出售高端光刻機(jī)時，有保留條款，禁止給國內(nèi)自主的CPU代工，比如給龍芯、申威等，但不影響給ARM芯片代工，很大程度上影響了自主技術(shù)和我國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的發(fā)展。

如果覺得對你有幫助，可以多多點(diǎn)贊哦，也可以隨手點(diǎn)個關(guān)注哦，謝謝。

上海微電子是國內(nèi)唯一的高端光刻機(jī)整機(jī)廠商，目前量產(chǎn)的最先進(jìn)光刻機(jī)只能支持90nm制程。

前幾年宣傳過要生產(chǎn)65nm光刻機(jī)，不過65nm與90nm都屬于上一代技術(shù)了，已經(jīng)落后，就算造出來，就技術(shù)或者市場來說意義都不大，比較雞肋，后來就不提了，看來已經(jīng)取消。

65nm是一個坎，90nm和65nm都屬于深紫外（DUV）干式光刻機(jī)，優(yōu)于65nm的就是深紫外浸沒式光刻機(jī)，工件臺浸泡在水里，技術(shù)革新幅度比較大。佳能和尼康就是因?yàn)殚_發(fā)這一代產(chǎn)品失敗，止步于高端光刻機(jī)市場。

國產(chǎn)光刻機(jī)的下一個目標(biāo)是28nm。能定下這個指標(biāo)本身就很了不起，荷蘭阿斯麥的DUV光刻機(jī)單次曝光最高只能到38nm。要實(shí)現(xiàn)28nm需要大量技術(shù)創(chuàng)新才行。

從全球來看，處于最低檔的水平，離最強(qiáng)的ASML應(yīng)該至少有10年以上的差距。

為何這么說，目前上海微電子光刻機(jī)還是處于量產(chǎn)90nm的階段，目前還在研發(fā)65nm，而ASML目前最牛的光刻機(jī)可用于生產(chǎn)5nm的芯片，具體的各個級別的光刻機(jī)分類如下：

如上所示，如果分為四類，分別是超高端、高端、中端、低端的話，上海微電子處于最低端，而這個技術(shù)，ASML10年前就有了，所以說離ASML至少是10年的差距，這還要ASML停留在原地等才行。

那么從90nm到5nm，從當(dāng)前的芯片主工藝來看，至少可以分為65nm、40nm、28nm、20nm、16/14nm、10nm、7nm、5nm等。

而這些節(jié)點(diǎn)技術(shù)，有好幾個臺階要上，首先是45nm的臺階，再到22nm的臺階，再到10nm臺階，再到7nm的臺階，真的是一步一個坎，有些坎幾年都未必能夠更新出一代來。而這些節(jié)點(diǎn)，真的是一步一臺階，越到后面越難，所以這個差距真的是非常大的。

網(wǎng)上一直流傳著一句話，ASML曾說就算他公開圖紙，別人也生產(chǎn)不出和他一樣的光刻機(jī)來，因?yàn)楣饪虣C(jī)的技術(shù)，很多是經(jīng)驗(yàn)積累，并且和芯片制造廠商的合作一起研發(fā)，并不是靠著元件就能夠解決的，而國內(nèi)芯片制造技術(shù)本來就落后，這樣無法強(qiáng)強(qiáng)聯(lián)手，很難追上ASML。

感謝您的閱讀！

雖然說在光刻機(jī)領(lǐng)域中，上海微電子一直表現(xiàn)比較搶眼，但在市面上出售的光刻機(jī)，卻著實(shí)有些令人感覺到差異，90nm的光刻機(jī)和荷蘭ASML的7nm Euv的區(qū)別著實(shí)有點(diǎn)過大了。但是，這種“憋屈”，我們現(xiàn)在還得承受著，這是無奈之舉。

我們得打破《瓦森納協(xié)定》的束縛？

其實(shí)，我們知道，《瓦森納協(xié)定》是成了禁錮我們發(fā)展的一大不可忽視的緊箍咒，不僅僅以美國為主的國家，極力的阻止我們在半導(dǎo)體領(lǐng)域的發(fā)展，還通過技術(shù)管制，讓我們很難在技術(shù)中，得以進(jìn)步。因?yàn)椋钚碌募夹g(shù)確實(shí)在美國等西方國家的技術(shù)鉗制中！

因此，如果打破不了《瓦森納協(xié)定》的束縛，我們在光刻機(jī)方面，還是會處于不小的壓力，這才是我們必須要知道的。

光刻機(jī)，需要多種技術(shù)的集合

什么是光刻機(jī)？光刻機(jī)是我們在生產(chǎn)芯片中的重要部分，其實(shí)簡單的解釋是，將光罩上的設(shè)計(jì)好集成電路圖形通過光線的曝光印到光感材料上。因此，鏡頭、分辨率、套刻精度都非常重要。

我們經(jīng)常說的nm是什么意思呢？其實(shí)，就是光刻機(jī)在365納米光源波長下（深紫外光），單次曝光最高線寬分辨力達(dá)到多少納米。

我們知道，光刻機(jī)的曝光系統(tǒng)常見光源分為:紫外光（UV）、深紫外光（DUV）、極紫外光（EUV）等等，如今能夠在EUV中有所作為的，可能只有ASML了。其實(shí)，ASML的成功是集眾家之長，比如德國蔡司提供的鏡頭，美國公司供應(yīng)的光源，也囊括了海力士、三星、英特爾等多家公司，因?yàn)樗鼈兪茿SML的股東，這就是阿麥斯聰明之處，想優(yōu)先獲得我的光刻機(jī)，就得成為我的股東。

技術(shù)集合的困難，是我國光刻機(jī)發(fā)展的難點(diǎn)。其實(shí)，上海微電子的發(fā)展已經(jīng)很不錯了，我覺得我們可能需要的是，換一種思路，打破國際慣例的技術(shù)限制，這就比如武漢光電國家研究中心的甘宗松團(tuán)隊(duì)，成功研發(fā)利用二束激光，生產(chǎn)9nm工藝制程的光刻機(jī)一樣，未來的限制只會被打破。

上海微電子在全球是“全球第四”的水平。

但事情就怕說“但”，一說這詞，后面的話就沒那么振奮人心了。

理由就是，如果把目光聚焦到技術(shù)含量最高，利潤也是最高的高端光刻機(jī)市場，就會發(fā)現(xiàn)這個市場特別小，小到了四家生產(chǎn)商都太擁擠了。現(xiàn)在來看，實(shí)際上哪怕只有一家，也能夠讓這個高端光刻機(jī)市場正常運(yùn)作下去。而且這個市場，現(xiàn)在也確實(shí)是一家獨(dú)大的形勢，荷蘭ASML一家獨(dú)攬了高端光刻機(jī)市場的大頭，老二和老三的佳能和尼康還能撿點(diǎn)湯湯水水混個水飽，至于上海微電子這個老四，就真的是只能面對锃光瓦亮的鍋碗瓢盆了！

現(xiàn)在在攀登最高端光刻機(jī)的道路上，老二和老三的佳能、尼康也是力不從心了，相繼都宣布了不會去開發(fā)EUV光刻機(jī)，干脆地躺倒認(rèn)輸了。這或許給了目前第四的上海微電子機(jī)會，加把勁說不定就能變成第二了。

但在這這已經(jīng)漸漸明朗的“壟斷”行業(yè)中，龍頭通吃的荷蘭ASML會給上海微電子，以及另外兩個輸家佳能和尼康，還能留下什么就真不好說了。

總之，光刻機(jī)的路上，老大荷蘭ASML已經(jīng)一騎絕塵，剩下三個難兄難弟能跑多快，能跑多遠(yuǎn)，都是只能掙亞軍了，而且是沒有獎金的亞軍，因?yàn)樵谶@個賽道上，只有冠軍能拿到獎金。

首先說下世界上生產(chǎn)光刻機(jī)的幾個品牌

ASML

尼康

佳能

歐泰克

上海微電子裝備

SUSS

ABM, Inc.

大家最熟悉的莫過于ASML了，經(jīng)常有新聞報(bào)道這家人數(shù)不多的公司，每個高端光刻機(jī)的流向，都會引起人們矚目，每一代高端cpu都離不開它的身影，而且有些型號還屬于禁運(yùn)品，可想而知它的重要性了。

下面我們說說國內(nèi)的上海微電，由于各國對高端光刻機(jī)的控制，我國也于02年開始開發(fā)研制，主要提供90nm及以下的制造能力，還是面對低端市場，能很大解決國外壟斷現(xiàn)象，提高我國芯片生產(chǎn)能力，主流的7nm生產(chǎn)工藝還主要在臺積電，三星(只是使用方，沒研發(fā))手中，不過我們也是奮發(fā)圖強(qiáng)，每年二三百臺的出貨量，大大提高我國芯片的競爭能力，如果分上中下三個等級的話，我感覺上海微電屬于中等偏下水平，不過隨著我們科技強(qiáng)國戰(zhàn)略，這個等級還會隨時變動，希望能造出超一流的設(shè)備，打造中國自己的高端芯片

素材來源網(wǎng)絡(luò)，侵權(quán)請聯(lián)系刪除